基于有限元仿真的超高速冲击对光学元件的散射分析方法

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正文
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基于有限元仿真的超高速冲击对光学元件的散射分析方法
申请号:CN202510182556
申请日期:2025-02-19
公开号:CN119647219B
公开日期:2025-05-27
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光学元件散射分析领域,尤其涉及一种基于有限元仿真的超高速冲击对光学元件的散射分析方法,包括:在有限元仿真软件中分别设置每个撞击物与靶板的参数,构建撞击物模型和靶板模型,撞击物模型与靶板模型构成超高速撞击模型;基于超高速撞击模型进行超高速撞击仿真,获得撞击后的靶板模型,并从撞击后的靶板模型中提取每个撞击坑的三维形貌数据;构建光学元件模型,并将每个撞击坑的三维形貌数据导入到光学元件模型中,通过数据拟合获得具有多个撞击坑的光学元件模型;根据光学元件模型的每个撞击坑计算双向散射分布函数,获得撞击坑的散射对光学系统的影响。本发明可以分析撞击坑引发的光线散射对于成像质量的影响。
技术关键词
光学元件 有限元仿真软件 分析方法 调制传递函数 散射光 方位角 后处理算法 点扩散函数 参数 数据 光学系统 尺寸 亮度 速度 密度 条纹 成像 动态 物理
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