具有用于均匀网格金属栅极和沟槽接触切口的全局链路的集成电路结构

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具有用于均匀网格金属栅极和沟槽接触切口的全局链路的集成电路结构
申请号:CN202510188650
申请日期:2025-02-20
公开号:CN120692920A
公开日期:2025-09-23
类型:发明专利
摘要
描述了具有用于均匀网格金属栅极和沟槽接触切口的全局链路的集成电路结构。结构包括栅电极和导电沟槽接触之间的电介质侧壁间隔物。第一和第二平行电介质切割插塞结构延伸穿过栅电极、穿过电介质侧壁间隔物和穿过导电沟槽接触。第二电介质切割插塞具有横向邻近于导电沟槽接触且暴露导电沟槽接触的侧面的凹陷。导电链路在第二电介质切割插塞结构的凹陷中,导电链路与导电沟槽接触的侧面接触,并且导电链路沿着导电沟槽接触的顶表面延伸。
技术关键词
导电沟槽 插塞结构 集成电路结构 侧壁间隔物 电极 链路 纳米线 金属栅极 通信芯片 集成电路管芯 数字信号处理器 鳍片 外延 网格 显示器 相机 存储器
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