使用多遍沉积技术形成半导体结构的系统和方法

提供了一种形成半导体结构的方法。该方法包括将衬底安置在半导体处理系统的第一室中，当衬底安置在半导体处理系统的第一室中时沉积覆盖衬底的第一层对，以及从第一室移除衬底。将衬底转移至联接到半导体处理系统的第一室的第二室，安置在半导体处理系统的第二室中，并且当衬底安置在第二室中时，第二层对沉积在衬底上，使得第二层对覆盖第一层对。还描述了半导体结构和半导体处理系统。