摘要
本申请提供一种提高晶圆量测准确率的方法、系统及存储介质,该方法包括:基于设计图形在量测软件中生成预定义量测图形;基于光学仿真模型进行仿真,得到仿真图形,仿真图形表征掩模版上的图形投影在晶圆上得到的图形,掩模版上的图形是基于设计图形确定的;获取预定义量测图形与仿真图形的相似度;调整预定义量测图形的形貌参数直到预定义量测图形与仿真图形的相似度在预设阈值范围内;基于调整后的预定义量测图形对晶圆进行量测,得到量测数据。本申请方案通过调整预定义量测图形的形貌参数直到预定义量测图形与仿真图形的相似度在预设阈值范围内,能够最大程度地使预定义量测图形与晶圆上投影得到的实际图形保持一致,提高晶圆量测的准确率。
技术关键词
仿真图形
光学临近效应修正技术
仿真模型
模版
涂覆光刻胶
处理器
晶圆
尺寸
参数
光刻胶层
存储器
软件