基于相位恢复优化的结构光生成方法、装置及设备

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基于相位恢复优化的结构光生成方法、装置及设备
申请号:CN202510224038
申请日期:2025-02-27
公开号:CN119846835A
公开日期:2025-04-18
类型:发明专利
摘要
本申请公开了一种基于相位恢复优化的结构光生成方法、装置及设备,涉及光电技术领域,该方法包括:基于目标强度分布的先验信息,对初始随机相位进行相位恢复,得到优化相位分布;基于所述优化相位分布,构建超表面硅基纳米柱阵列;基于所述超表面硅基纳米柱阵列,对输入光进行相位调制,得到目标结构光。通过上述方式,设计相位恢复优化算法,有效地利用目标强度分布的先验信息对相位恢复的过程进行优化,提高相位恢复的精度和计算效率,并利用超表面硅基纳米柱阵列来实现精确的相位调制,从而生成高均匀性和高衍射效率的结构光,能够显著提高结构光的质量和性能。
技术关键词
硅基纳米柱阵列 结构光 图像 生成方法 强度 超表面器件 结构单元 生成设备 设备配置 生成装置 数据 傅立叶 模块 光电 矩阵 算法 精度 参数
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