一维图案的光学临近修正方法、存储介质、电子设备

本发明提供了一种一维图案的光学临近修正方法、存储介质、电子设备，所述方法包括建立各尺寸的一维图案在各空间环境下模型误差表，所述模型误差表由数值补值表及模型补值表得到，所述数值补值表由各尺寸的一维图案在各空间环境下基于规则的光学临近效应修正获得，所述模型补值表由各尺寸的一维图案在各空间环境下基于模型的光学临近效应修正获得；对一维图案执行基于规则的光学临近效应修正，再执行基于模型的光学临近效应修正，所述规则包括所述数值补值表，所述模型包括所述模型误差表作为校正参数。本发明可用于优化一维图案的光学临近修正。