一种综合孔径辐射计UV覆盖率优化方法、装置及设备

本发明提供一种综合孔径辐射计UV覆盖率优化方法、装置及设备，所述方法包括：确定综合孔径辐射计中天线阵列的初始天线位置；确定第一初始最优基础步长；选择待移动的目标天线，并基于第一初始最优基础步长对目标天线进行一方向的移动；基于改变位置后的目标天线及第一初始最优基础步长计算第二步长，并基于第二步长对改变位置后的目标天线进行一方向的移动，以改变第二步长及目标天线的位置；重复上一步骤至目标迭代数时，确定不同位置下目标天线的Q值；基于最大Q值对应的目标天线的位置进行天线阵列的位置优化。本发明的方法用于对非均匀阵列排布进行优化，并据此来提高综合孔径辐射计的UV覆盖率。