摘要
本申请提供了一种抗反射层的厚度确定方法,其中,该方法包括:获取待曝光晶圆对应的目标区域图形的图形文件;获取至少一个预设窗口图形和所述目标区域图形分别对应的预设抗反射层厚度;将所述图形文件和所述预设抗反射层厚度输入至光学临近修正模型来执行光学模拟,得到每个预设抗反射层厚度对应的光强随坐标产生变化的模拟曲线;在每个预设抗反射层厚度对应的所述模拟曲线中,确定出所述目标区域图形的预设位置信息对应的目标曲线斜率;依据每个预设抗反射层厚度对应的目标曲线斜率的比较结果,确定出用于降低所述目标区域图形的连通风险的目标抗反射层厚度。
技术关键词
抗反射层厚度
光学临近修正模型
晶圆曝光工艺
曲线斜率
光强
风险
曝光光源
端点
坐标
间距
基础
光刻胶
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