基于多截面聚焦纹影成像的流场显示装置及方法

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基于多截面聚焦纹影成像的流场显示装置及方法
申请号:CN202510270110
申请日期:2025-03-07
公开号:CN119756769A
公开日期:2025-04-04
类型:发明专利
摘要
本发明公开了基于多截面聚焦纹影成像的流场显示装置及方法,属于聚焦纹影成像技术领域,解决了同时获取多个流场信息困难,导致测量得到的结果准确度低的问题,本发明装置包括成像装置、成像记录装置、密度场处理系统和光学系统支架;所述成像记录装置设置于成像装置旁至少两个方向上的位置处,所述密度场处理系统与成像记录装置通过信号传输连接,成像装置和成像记录装置分别设置于光学系统支架上;方法包括调整系统参数,设置元件;光源发出光束穿过待测流场区域;光束分束,并选择位置截取;对光束进行成像,采集截取到的图像信息,传输至系统;将图像信号处理为流场信息并显示。本发明用于对流场密度及变化量进行测量和显示,结果准确度高。
技术关键词
流场显示装置 光学系统支架 成像装置 记录装置 图像接收装置 聚焦透镜 流场显示方法 控制传输系统 光束 密度 脉冲光源 图像灰度值 菲涅尔透镜 衰减装置 柔光装置 隔振平台 参数 数学物理模型
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