内部杂散光多物理场仿真方法、装置、设备及介质

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内部杂散光多物理场仿真方法、装置、设备及介质
申请号:CN202510286879
申请日期:2025-03-12
公开号:CN119783487B
公开日期:2025-06-13
类型:发明专利
摘要
本申请涉及计算机仿真,公开了一种内部杂散光多物理场仿真方法、装置、设备及介质。该方法包括:包括:根据实际机械模型的装配数据生成待测系统模型;针对待测系统模型的各结构面划分网格,根据热特性、应力特性、边界条件及载荷进行有限元分析求解,得到最终折射率稳态值、温场稳态模型及形变应力模型;将温场稳态模型及形变应力模型导入至光线追迹软件;通过光线追迹软件从温场稳态模型及形变应力模型的成像面逆向出射光线,采用逆向光线追迹筛选关键光学表面;采用正向光线追迹对关键光学表面进行采样处理,对温场稳态模型及形变应力模型进行正向光线追迹,以获取内部杂散光仿真结果及路径分析结果。这样,提高内部杂散光分析的准确度。
技术关键词
待测系统 稳态模型 应力 机械模型 仿真方法 结构件 载荷 网格 软件 定义 杂散光分析 非线性 关系 物理 线性膨胀系数 蒙特卡洛方法 成像
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