一种高磷含氟废水深度处理系统及方法

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一种高磷含氟废水深度处理系统及方法
申请号:CN202510290193
申请日期:2025-03-12
公开号:CN119898925A
公开日期:2025-04-29
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种高磷含氟废水深度处理系统及方法,包括高磷含氟废水均和池、一级除磷除氟系统及二级深度处理系统、产水池和再生加药装置,一级除磷除氟系统包含反应系统和第一沉淀池,二级深度处理系统包括依次相连的预处理池、第二沉淀池、澄清池、深度处理预处理过滤装置、过滤水池与高氟深度处理树脂交换塔,高磷含氟废水均和池与反应系统的入口相连,反应系统的出水口依次与第一沉淀池、二级深度处理系统、产水池相连,澄清池的不合格产水口与高磷含氟废水均和池相连,高氟深度处理树脂交换塔的出水口与冲洗及再生进水总管路相连。采用本发明方法对电子芯片制造产生的含磷含氟废水进行处理,除磷除氟率达到99%以上。
技术关键词
预处理过滤装置 树脂交换塔 过滤水池 沉淀池 絮凝池 pH调节池 混凝池 澄清池 进水总管 加药装置 丙烯酰胺 离子交换树脂 氯化铝 出水口 抽取器 污泥浓缩池 补药 电子芯片
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