一种离子注入机的硅片载物台用硅片对准焦面校准方法

本发明公开了一种离子注入机的硅片载物台用硅片对准焦面校准方法，本发明涉及光刻对焦技术领域。该离子注入机的硅片载物台用硅片对准焦面校准方法，通过光学系统对硅片载物台上硅片的图像数据进行采集处理，数据处理后基于对准标记实现硅片载物台位置的初步校准，而后对光学系统的焦距进行调节确定对准标记处的焦点，通过标点算法结合光学系统的测验实现焦面的偏差计算，而后将偏差数值补偿至硅片载物台进行修正确定对准焦面，以此实现焦距调整和产品倾斜度调整的结合，从而保障硅片对准焦面校准后中心对应的同时，其产品所处位置均位于对准焦面的平面上，提高校准效率的同时保障校准精度。