低成本掩膜版及其制备方法和应用该掩膜版的光刻方法

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推荐专利
低成本掩膜版及其制备方法和应用该掩膜版的光刻方法
申请号:CN202510321009
申请日期:2025-03-18
公开号:CN120103666A
公开日期:2025-06-06
类型:发明专利
摘要
本发明涉及低成本掩膜版及其制备方法和光刻方法,低成本掩膜版包括基板和贴附在基板上的碳带,碳带上具有预先设计的透光区和非透光区,透光区和非透光区共同构成芯片的图案。使用碳带打印机在碳带上打印出芯片图案,碳带被打印后涂层掉落的区域为透明,可透过光刻机的紫外光,而碳带上保留涂层的区域为黑色,可以遮挡光刻机的紫外光,将碳带贴附在基板上可以形成掩膜版,从而将碳带上的芯片图案转移到晶圆上;碳带打印加工掩膜版相较于电子束或激光刻蚀技术加工掩膜版,成本低廉且加工周期短;本申请掩膜版采用碳带打印、裁剪、贴附等,打印芯片图案方便快捷,裁剪、贴附工艺可批量生产;对于低精度芯片的掩膜版,本制备方法能够快速地制作完成。
技术关键词
掩膜 低成本 光刻机 光刻方法 碳带打印机 透光 图案 芯片 涂覆光刻胶 绘图软件 树脂基碳带 混合基碳带 紫外光 激光刻蚀技术 光刻胶层 基板 模版 电子束
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