一种基于氧等离子体辅助的光电突触器件及其在神经形态计算中的应用

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一种基于氧等离子体辅助的光电突触器件及其在神经形态计算中的应用
申请号:CN202510325914
申请日期:2025-03-19
公开号:CN120224798A
公开日期:2025-06-27
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体领域,公开了一种基于氧等离子体辅助的光电突触器件及其在神经形态计算中的应用,所述光电突触器件包括自下到上设置的衬底层、光电敏感层和电极层,且衬底层包括Si层和SiO2层,所述SiO2层位于Si层上方,且光电敏感层包括沉积在衬底层表面的二维碲烯纳米片层,所述二维碲烯纳米片层表面采用氧等离子体处理,且电极层沉积在光电敏感层表面,所述电极层包括平行设置的第一电极和第二电极,本发明突触权重变化的线性度显著优于同类器件,可以减少神经网络训练误差,提升计算精度,同时通过多通道光响应架构,实现信息并行处理与特征增强。
技术关键词
突触器件 光电 衬底层 电极 信息并行处理 数字图像编码 磁控溅射沉积 神经网络架构 神经网络训练 纳米片 多通道 形态 波长光 层沉积 双层结构 滤波器 半导体 脉冲
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