基于病理玻片的局部自适应平场校正方法、装置及其可读存储介质

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基于病理玻片的局部自适应平场校正方法、装置及其可读存储介质
申请号:CN202510326470
申请日期:2025-03-19
公开号:CN119850500B
公开日期:2025-12-26
类型:发明专利
摘要
本发明提出了一种基于病理玻片的局部自适应平场校正方法、装置及其可读存储介质,包括:获取包含背景干扰的病理玻片图像,通过阈值掩码剔除贴纸等干扰区域;将图像转换为HSL颜色空间,仅对亮度通道进行处理;对亮度通道进行重叠分块,计算各块平均亮度并生成校正因子矩阵;通过插值扩展矩阵后对亮度通道进行局部校正,最终合并色彩通道并输出校正图像。本发明通过局部自适应分块策略,有效解决了病理玻片图像中因背景不均匀、贴纸干扰导致的亮度失调问题,保留图像细节,提升后续分析准确性。
技术关键词
病理玻片 平场校正方法 亮度校正 插值方法 阈值方法 贴纸 因子 通道 可读存储介质 矩阵 保留图像细节 Otsu算法 颜色 分块策略 饱和度 校正装置
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