用于红外成像目标模拟系统的成像焦距校正方法

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用于红外成像目标模拟系统的成像焦距校正方法
申请号:CN202510346259
申请日期:2025-03-24
公开号:CN119863370B
公开日期:2025-05-23
类型:发明专利
摘要
本发明涉及红外成像校正技术领域,具体涉及一种用于红外成像目标模拟系统的成像焦距校正方法。本发明首先获取红外灰度图像并提取出目标轮廓;进一步获取每个轮廓像素点的清晰度;进一步将目标轮廓进行延伸,获得外层轮廓;进一步获取每个延伸像素点的清晰度;进一步根据所有轮廓像素点与所有延伸像素点的清晰度,结合所有轮廓像素点与所有延伸像素点的梯度差异特征,获取红外灰度图像的图像清晰度;最后根据图像清晰度进行成像校正。本发明通过对图像中目标轮廓进行提取,借助像素点的局部梯度变化分析目标轮廓及其周围的清晰度,再结合目标轮廓和外层轮廓的梯度差异,对图像的清晰度进行评估,从而及时对成像校正,保障成像质量。
技术关键词
像素点 轮廓 模拟系统 校正方法 图像 成像校正技术 幅值 序列 算法 分子
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