一种光刻胶模型的建模方法及相关产品

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一种光刻胶模型的建模方法及相关产品
申请号:CN202510353836
申请日期:2025-03-24
公开号:CN120295062A
公开日期:2025-07-11
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种光刻胶模型的建模方法及相关产品。建模方法包括获取光刻胶模型中影响光刻胶的显影图形的待优化工艺参数集合;基于各参数所属的工序将集合划分成多个子集;以由光刻胶模型得到的仿真结果和实测结果之间的最小偏差指标为优化目标,以各子集为迭代单元,对集合的各参数进行优化;其中,在对处于下游工序的子集的各参数进行迭代优化过程中,处于上游工序的子集的各参数不变。本方案可在不大幅降低模型精度的情况下,降低优化算法的计算复杂度,提高计算效率,节省计算资源。
技术关键词
光刻胶模型 建模方法 优化工艺参数 偏差 算法 指标 显影工序 图形关键尺寸 沟槽形状 计算机程序产品 处理器 计算机设备 可读存储介质 存储器 复杂度 非线性 嵌套
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