线边缘粗糙度的生成方法、装置、计算机设备及存储介质

本申请公开了一种线边缘粗糙度的生成方法、装置、计算机设备及存储介质，属于半导体技术领域。所述方法包括：获取以高频频率对半导体器件测量得到的高频测量数据，并获取以低频频率对半导体器件测量得到的低频测量数据；以倍数关系的数值作为卷积核的长度，以卷积核对高频测量数据进行多次卷积处理，得到多组低频采样数据；以低频测量数据为参照，分别对多组低频采样数据进行调整，得到多组低频模拟数据；融合多组低频模拟数据和高频测量数据，得到融合数据；基于融合数据构建线边缘粗糙度函数，基于线边缘粗糙度函数生成线边缘粗糙度。本申请通过对线边缘粗糙度进行建模，能够随机生成符合实际工艺并兼顾不同测量频率的线边缘粗糙度。