等离子体射流形态控制方法、装置、设备及介质

本申请公开了一种等离子体射流形态控制方法、装置、设备及介质，本方案通过利用深度学习模型，建立电磁参数与射流形态之间的映射关系，可高精度预测射流扩散角、长度和温度分布等关键特性，显著提高调控的准确性；另外，通过闭环控制流程，结合传感器数据采集、误差分析和动态调控，实时响应环境变化与目标形态偏差，确保调控系统的快速响应能力。