一种激光雷达的垂直腔面发射激光器芯片生产用刻蚀装置

AITNT
正文
推荐专利
一种激光雷达的垂直腔面发射激光器芯片生产用刻蚀装置
申请号:CN202510390625
申请日期:2025-03-31
公开号:CN120221378A
公开日期:2025-06-27
类型:发明专利
摘要
本发明涉及一种激光雷达的垂直腔面发射激光器芯片生产用刻蚀装置,属于激光雷达生产技术领域,该一种激光雷达的垂直腔面发射激光器芯片生产用刻蚀装置,包括刻蚀室、保护气体气源、刻蚀气体气源、保护气输气管,还包括:预热机构;气动切换机构;注气清理机构;过滤机构。本发明通过气动切换机构的使用,连接管在排气的过程中,改变进入输送管内的气体类型,使得输送管间歇性向刻蚀室内注入保护气,防止刻蚀后的晶圆侧壁上形成钝化层或保护膜,以便进行进一步的刻蚀,同时清除光刻后的晶圆侧壁上的杂质或反应副产物,提高刻蚀均匀性和侧壁的平整度,从而保证了光刻后的晶圆不同区域刻蚀速率的均匀性,保证了光刻后的晶圆整体刻蚀质量。
技术关键词
垂直腔面发射激光器芯片 刻蚀装置 气动切换机构 激光雷达 刻蚀气体 输气管 保护气 气室 预热机构 磁场线圈 过滤机构 清理杆 排气端 滤网 真空泵 螺旋片 光刻 电极
添加客服微信openai178,进AITNT官方交流群
驱动智慧未来:提供一站式AI转型解决方案
沪ICP备2023015588号