芯片结构及其制作方法

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推荐专利
芯片结构及其制作方法
申请号:CN202510393098
申请日期:2025-03-31
公开号:CN120432443A
公开日期:2025-08-05
类型:发明专利
摘要
本发明涉及光通信技术领域,提供了一种芯片结构,包括用于保护芯片本体需要保护区域的空腔结构,所述空腔结构呈框型的基底以及设于所述基底上的盖板,所述基底和所述盖板一体成型且材质相同。还提供一种芯片结构的制作方法,包括如下步骤:在晶圆表面,结合光刻工艺,干法与湿法相结合制作所述脊波导;在所述脊波导上制作电注入窗口;在晶圆表面制作金属电极;在所述脊波导的有源区域上方制作空腔结构;制作所述空腔结构时,所述空腔结构的基底和盖板一体成型且材质相同。本发明的空腔的基底和盖板材料相同,一体成型,可以保护器件功能结构免受外部环境的影响,提高器件的稳定性,可靠性和良率,同时本申请工艺简单,生产成本低。
技术关键词
芯片结构 盖板一体成型 光刻工艺 层区域 光刻胶 绝缘材料 制作金属电极 聚合物材料 脊波导结构 基底 制作空腔 种子层 保护芯片 免受外部环境 化镀工艺 盖板材料 光通信技术
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