灰质脑区抗磁成分磁化率图构建和分析方法及其应用

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推荐专利
灰质脑区抗磁成分磁化率图构建和分析方法及其应用
申请号:CN202510394846
申请日期:2025-03-31
公开号:CN120531368A
公开日期:2025-08-26
类型:发明专利
摘要
公开灰质脑区抗磁成分磁化率图构建和分析方法及其应用,可以探究AD患者在体素水平上皮质铁沉积的全局分布模式,并定位磁化率与认知相关的皮质区域。方法包括:(1)受试者在磁共振扫描仪上进行MR数据采集;(2)使用基于Laplacian的相位展开方法对多回波相位图像进行解缠绕;使用FSL软件内置的BET算法对首个回波的幅值图进行剥脑处理并生成二值的脑掩膜图;使用V‑SHARP算法并结合脑掩膜图去除解缠绕后相位图的背景场;使用STAR‑QSM算法从局部场图中计算磁化率图;(3)使用T1加权的结构像计算皮层厚度,对3D‑FSPGR序列结构像进行后处理;(4)进行基于体素的全脑QSM分析、皮层厚度统计分析。
技术关键词
分析方法 相位展开方法 磁共振扫描仪 校正 多元线性回归模型 序列 回波 特异 掩膜 蒙特卡罗 模板 年龄 插值算法 图像 掩模 软件 球形 数据
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