一种晶圆表面污染缺陷检出方法及装置

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一种晶圆表面污染缺陷检出方法及装置
申请号:CN202510395081
申请日期:2025-03-31
公开号:CN120318181A
公开日期:2025-07-15
类型:发明专利
摘要
本发明涉及晶圆检测技术领域,具体提供一种晶圆表面污染缺陷检出方法及装置,对目标晶圆进行暗场拍摄,获取该晶圆的表面暗场散射图像,遍历暗场图像中的每一个像素,通过设定邻域和SNR估算计算形成SNR估计图,通过双阈值原理对SNR估计图进行全局阈值分割,获得低阈值二值图和高阈值二值图,遍历低阈值二值图中的连通区域,若连通区域内存在至少一个像素在高阈值二值图中被标记为缺陷,则将该连通区域内所有像素标记为真实缺陷,否则标记为伪缺陷。本发明在背景噪声较大动态范围、缺陷像素数量较少、缺陷信号较弱等条件下,仍能稳定检出缺陷和缺陷轮廓。
技术关键词
缺陷检出方法 像素 邻域 背景噪声 低阈值 标记 晶圆检测技术 估计算法 图像 缺陷轮廓 处理器通信 计算机 指令 幅值 可读存储介质 存储器 电子设备
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