平面透射电镜样品的制备方法

本发明公开了一种平面透射电镜样品的制备方法，包括：提供芯片样品，在芯片样品的目标位置形成保护层。在保护层上刻蚀出3个以上标记开口并在标记开口中填充第二材料层形成标记，第二材料层的材料和保护层的材料不同。采用FIB对芯片样品上选定面进行平面切割，在平面切割过程中，利用各标记的衬度差异调整切割角度，使得平面切割的切割面和选定面平行。本发明能保证切割方向和选定面平行，最大限度地保证TEM样品信息完整性，提高平面TEM样品制样成功率。