一种面向多维磁场重建的磁光成像检测方法与装置

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一种面向多维磁场重建的磁光成像检测方法与装置
申请号:CN202510419424
申请日期:2025-04-03
公开号:CN120334343A
公开日期:2025-07-18
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种面向多维磁场重建的磁光成像检测方法与装置,涉及裂纹测量技术领域。该方法步骤如下:步骤S1、选择待检测可磁化样件并搭建磁光成像检测装置;步骤S2、使用测试装置进行多层提离的裂纹测量检测;步骤S3、对磁光图像进行处理,减少光源系统造成的灰度分布误差,拟合得到漏磁场峰峰值位置;步骤S4、根据固定步长下裂纹磁光图像反演分析,实现裂纹尺寸测量。该磁光成像检测装置包括磁光成像系统、微小位移提离平台、励磁设备和待检测可磁化样件。本发明通过多层提离技术降低了提离高度对测量结果的影响,可测量更细小裂纹,减少了光源系统的影响,同时采用了交流励磁与考虑时间维度的图像处理方法减少了裂纹尺寸对磁场测量的影响。
技术关键词
成像检测方法 成像检测装置 磁光薄膜 裂纹尺寸 光源系统 励磁设备 半透半反镜 偏振光源 图像处理方法 漏磁场模型 相机 误差 裂纹特征 竖直分量 平台
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