一种集成电路扫描电镜图像降噪方法

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推荐专利
一种集成电路扫描电镜图像降噪方法
申请号:CN202510429544
申请日期:2025-04-08
公开号:CN119941562B
公开日期:2025-07-04
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种集成电路扫描电镜图像降噪方法,相比业界传统的多帧叠加技术,它能够避免光刻胶收缩,使图像成像更加清晰。本发明具体是在半导体制造产线上获取一张关键特征尺寸一致性晶圆;获取目标点在不同芯粒中的SEM图像;在上述SEM图像中寻找一张图像作为参考图像,其余图像作为待比较图像;获取参考图像与待比较图像间的所有重叠区域;对所有重叠区域计算最大交集区域,并对最大交集区域进行像素级平均,得到降噪后SEM图像。本发明能够降低SEM图像的噪声,提升图像质量,为半导体制造过程中产品质量检查和光刻模型驱动提供可靠的数据来源。
技术关键词
高斯差分尺度空间 扫描电镜图像 图像特征点 多尺度高斯滤波器 降噪方法 高斯金字塔 傅里叶分析方法 集成电路 光刻模型 叠加技术 半导体 直方图 坐标 矩阵 计算机 晶圆 像素 邻域
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