基于多管矢量合成的等离子体射流矢量调控装置

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基于多管矢量合成的等离子体射流矢量调控装置
申请号:CN202510451746
申请日期:2025-04-11
公开号:CN120379123A
公开日期:2025-07-25
类型:发明专利
摘要
发明型属于等离子体射流技术领域,具体公开了基于多管矢量合成的等离子体射流矢量调控装置,射流控制组件,通过射流控制组件控制射流磁场方向,形成螺旋轨迹,进而降低后续调控难度,通过控制多个射流管生产旋转合成射流,可用于飞行器的滚转控制;射流扰动组件,通过射流扰动组件扰动射流,边界层分离点后移,进而提升射流的分定向,形成科恩达效应,且科恩达效应使射流附着于偏转壁面,提升偏转效率;射流调控组件,通过射流调控组件通过RL模型算法生成最优调控指令,在推进中射流方向跟踪误差下降;拓展组件,通过拓展组件进行射流管的拓展,提高射流直径。
技术关键词
射流调控 调控装置 科恩达效应 拉瓦尔喷管 传感器组合 DBD电极 多通道可编程电源 控制组件 等离子体射流技术 模型算法 冷却模块 阵列 氮化硅陶瓷 流速传感器 红外热像仪 飞行器 控制单元 板式换热器 循环水泵
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