一种基于稀疏盲去卷积的计算自适应光学显微成像方法

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正文
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一种基于稀疏盲去卷积的计算自适应光学显微成像方法
申请号:CN202510463647
申请日期:2025-04-14
公开号:CN120405921A
公开日期:2025-08-01
类型:发明专利
摘要
本发明提出了一种基于稀疏盲去卷积的计算自适应光学显微成像方法。该方法结合了荧光样本的稀疏先验和基于泽尼克多项式的像差校正算法,与传统的Richardson‑Lucy去卷积相比,能够从单个模糊图像中同时重建点扩散函数和样本信息,避免了精确点扩散函数校准的需要,在提高对噪声的鲁棒性和稳定去卷积过程方面表现更优。本发明显著提高了宽场和共聚焦荧光显微镜系统的图像分辨率和对比度,适用于动态生命科学研究和医学成像等领域的迫切需求,具有广泛的应用前景。
技术关键词
光学显微成像方法 点扩散函数 稀疏先验 多项式 荧光显微镜系统 滤光组件 拍摄荧光图像 梯度滤波器 去模糊图像 照明光源 矩阵 校正算法 医学成像 物镜 低噪声
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