光刻仿真模型构建方法及相关设备

本发明提供了一种光刻仿真模型构建方法及相关设备，构建方法包括：获取设计图，并将设计图拆分成至少两个掩模图，至少两个掩模图于连接区域重叠；分别为每个掩模图构建对应的光学模型，光学模型用于描述对应的掩模图在光刻工艺中光场分布；根据至少两个掩模图的连接关系，合并对应的光学模型，以得到光学合成模型；基于光学合成模型构建光刻胶模型，光刻胶模型用于描述光刻胶图的形成过程。本构建方法通过对每个掩模图构建光学模型，以描述每个掩模图在曝光时对光刻胶的曝光显影区域的整体影响，实现了对双重曝光工艺下曝光过程仿真的目的，提高了光学合成模型仿真结果的准确率，进而降低了芯片制造中的缺陷风险。