可解决键合界面气泡问题的晶圆结合体、芯片及制备方法

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可解决键合界面气泡问题的晶圆结合体、芯片及制备方法
申请号:CN202510471107
申请日期:2025-04-15
公开号:CN120280357A
公开日期:2025-07-08
类型:发明专利
摘要
本发明提出一种可解决键合界面气泡问题的晶圆结合体、芯片及制备方法,制备方法包括:提供第一晶圆与第二晶圆;在第一晶圆的其中一个表面形成第一介质层;在第一介质层上刻蚀形成凹槽;在第二晶圆的与第一介质层相对的表面形成第二介质层;将第二介质层与第一介质层对准并键合,形成晶圆结合体。本发明通过在晶圆键合表面形成凹槽的微织构结构,为晶圆键合过程中键合界面形成化学键所产生的气体提供逸散通道,降低键合界面气泡的产生率,有效提高键合界面的质量和可靠性,提高芯片流片的成品率。尤其是改善直接键合XOI的膜层质量,提高XOI晶圆材料的可靠性。
技术关键词
结合体 介质 晶圆 界面 真空活化 气泡 凹槽 芯片 柱状 叠层 臭氧 气体 通道
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