一种金属基薄膜内腐蚀性检测方法

本发明提供了一种金属基薄膜内腐蚀性检测方法，包括：设定与保护层材料匹配的电磁激励频率；施加激励信号并采集反射率、相位与谐波响应；建立无腐蚀标准响应模型；对比检测样本与标准模型的响应偏差，提取相位偏差率、谐波增幅比与反射率差值等腐蚀特征；依据阈值判断潜在腐蚀区域并构建腐蚀图谱；根据腐蚀等级占比计算结构健康指数并输出评估结果。本发明采用多频段电磁激励并结合非接触式响应采集方法，能够在不破坏金属基薄膜保护层结构的前提下，准确识别薄膜内部可能存在的腐蚀区域，实现对封装器件及原位结构的高完整性样品的无损检测，极大提升对在役器件和精密结构的适配性与检测安全性。