一种集成电路掩膜板缺陷多光谱协同检测方法及系统

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一种集成电路掩膜板缺陷多光谱协同检测方法及系统
申请号:CN202510493181
申请日期:2025-04-18
公开号:CN120352354A
公开日期:2025-07-22
类型:发明专利
摘要
本申请涉及缺陷检测的技术领域,公开一种集成电路掩膜板缺陷多光谱协同检测方法,包括:利用多光谱相机对掩膜板进行初步扫描,选择最优波段组合,通过液晶可调滤光片切换至目标波段,获取高置信度多光谱图像;通过线性关系计算光路偏移量并动态调整微镜偏转角度,补偿成像偏移后二次采集图像;在FPGA中完成图像滤波与配准,生成高对比度融合图像;若置信度不足则触发波段重选机制复检;基于实时检测数据动态优化缺陷类型-光谱映射表;环境波动超限时自动切换至抗干扰模式,并触发微镜校准;实时监测光学组件性能退化,切换冗余光路并清洁受损部件,冲突时触发人工复检,最终生成可视化报告。本申请能够提高对于集成电路掩膜板的检测精准度。
技术关键词
协同检测方法 掩膜板 集成电路 液晶可调滤光片 多光谱相机 高对比度图像 抗干扰模式 多波段 图像执行滤波 光学系统焦距 透明薄膜 光学组件 现场可编程门阵列 畸变缺陷 图像配准 多传感器融合算法 微镜 注意力机制
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