一种掩模调整方法、装置、设备以及计算机存储介质

本申请实施例提供了一种掩模调整方法、装置、设备以及计算机存储介质，方法包括：基于掩模设计规则，确定目标辅助图形对应的掩模规则区域。确定与掩膜规则区域发生区域重叠的待调整辅助图形，并确定出待调整辅助图形中的图形生长起始边。根据掩模规则区域对调整辅助图形中的图形生长起始边执行多次图形生长，基于生长停止标准确定得到调整后的目标掩模。此技术方案能够灵活应用在针对具有任何位置关系和图形结构的辅助图形进行图形调整的场景中，无需在每次图形调整后重新制定检测和调整策略。此方法可以显著提升光学邻近效应修正过程的处理效率和修正精度，进而保证掩模设计符合规范，进一步使得后续芯片生产效率以及芯片质量获得有效提升。