亚微米级晶元制造工艺缺陷视觉验证实验平台

本发明涉及半导体工艺缺陷视觉检测技术领域，且公开了亚微米级晶元制造工艺缺陷视觉验证实验平台，包括光学显微镜、图像采集装置、图像处理装置、缺陷识别装置、数据分析装置、控制装置、用户界面、数据存储装置、机械臂装置、高精度定位系统和光源系统，光学显微镜用于提供高倍率的观察视野，使得亚微米级晶元的细节得以清晰呈现，图像采集装置负责将显微镜下的晶元图像采集下来，并转化为数字信号，提供后续处理，本发明的亚微米级晶元制造工艺缺陷视觉验证实验平台，实现了对亚微米级晶元制造工艺缺陷的快速、准确检测与验证，提高了检测效率和准确性，降低了人为因素的影响，为半导体产业的发展提供了有力支持。