一种基于重投影优化的圆孔位姿测量方法

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一种基于重投影优化的圆孔位姿测量方法
申请号:CN202510520532
申请日期:2025-04-24
公开号:CN120495391A
公开日期:2025-08-15
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种基于重投影优化的圆孔位姿测量方法。方法包括:使用双目相机采集包含圆孔的两张目标图像,进而获得圆孔的初始位姿参数,然后重投影生成圆孔在双目相机平面上的投影椭圆,结合边缘检测椭圆,使用椭圆误差和余弦衰减策略处理后获得圆孔的位姿参数的更新步长,进而迭代更新圆孔的位姿参数,实现圆孔位姿的测量。本发明将圆孔空间位姿参数作为待优化变量,生成圆孔在双目相机平面上的投影椭圆,使投影椭圆与椭圆检测算法得到的椭圆之间的误差最小,充分利用椭圆检测结果,又弥补了椭圆检测结果无法满足双目视觉对极约束的不足,同时结合了余弦衰减策略计算学习率,使圆孔空间位姿参数计算结果快速收敛,提高了测量精度。
技术关键词
位姿测量方法 双目相机 边缘检测 坐标系 参数 视觉重建方法 误差 图像 圆心 策略 程序 处理器 长轴 可读存储介质 存储器 数据 像素点 算法
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