一种处理工艺热点的OPC优化方法

本申请提供一种处理工艺热点的OPC优化方法，包括：步骤一，提供原始版图，对该原始版图进行OPC修正；步骤二，对经过OPC修正后的版图进行光刻严格仿真验证，以获取工艺热点区域图形的最佳成像高度；步骤三，对根据工艺热点区域图形的最佳成像高度生成的二维版图进行OPC验证。将光刻严格仿真集成到OPC仿真结果内，使用优化算法获取最佳成像高度，将工艺热点区域严格仿真结果转换为二维版图数据，可以快速明确地指导OPC进一步修正，提高OPC对工艺热点区域的优化精确度。