一种无掩膜光刻设备对位与曝光运动标定方法及装置

本发明提供一种无掩膜光刻设备对位与曝光运动标定方法及装置，属于光刻设备对位与曝光技术领域。该无掩膜光刻设备对位与曝光运动标定方法包括如下步骤：S1：获取第一坐标转换关系，获取第二坐标转换关系；S2：获取第一待测坐标；S3：获取第二待测坐标，获取第三待测坐标；S4：基于第二待测坐标控制DMD中心对第一待测点进行曝光打点，基于第三待测坐标控制相机对位该第一待测点。本发明中在应用标定算法和插值算法进行坐标变换时均没有投影变换的限制，可以模拟透视效果，对于不同高度距离的相机对位都能够进行，可以处理三维空间或更复杂的变换，能够适应更多的坐标变换。