一种薄壁点阵夹层结构隐式生成方法

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一种薄壁点阵夹层结构隐式生成方法
申请号:CN202510565695
申请日期:2025-04-30
公开号:CN120541981A
公开日期:2025-08-26
类型:发明专利
摘要
本发明公开了一种薄壁点阵夹层结构隐式生成方法,属于轻量化设计技术领域,包括在薄壁模型待填充区域划分六面体网格,在六面体单胞内构造随形距离场,结合当前六面体的点阵类型、设计参数及邻接六面体的点阵信息,生成共形点阵距离场;同时对薄壁网格模型做体素化处理,提取出边界体素并存储对应面片信息,边界六面体通过扩展搜索范围搜索最近边界体素面片信息,并通过隐式偏置生成模型边界距离场,最终与点阵距离场实现布尔融合。本发明所述薄壁内部填充方法以点阵微结构为中心,能够高效实现大尺寸薄壁模型夹层的跨尺度微结构的高质量并行填充,可解决目前主流隐式填充方法的精度不足,和显式填充方法的融合困难、过渡尖锐等问题。
技术关键词
六面体 薄壁模型 夹层结构 生成方法 面片 点阵信息 填充方法 轻量化设计技术 消除尖锐边缘 移动立方体算法 盒覆盖 边界距离场 大尺寸薄壁 微结构 划分方法 网格模型 坐标系 参数 连续性
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