MPCVD半导体薄膜均匀性实时原位监测方法及系统

本发明公开了一种MPCVD半导体薄膜均匀性实时原位监测方法及系统，所述方法包括获取不同MPCVD生长工艺下半导体薄膜的光谱信息和表征数据，并构建数据库；根据所述数据库和双通道残差架构神经网络分析训练得到半导体薄膜生长均匀性识别模型；获取半导体薄膜实时的光谱信息，结合所述半导体薄膜生长均匀性识别模型，得到半导体薄膜的生长情况。本发明结合MPCVD实时的光谱信息和表征数据与机器学习算法实现MPCVD生长过程中薄膜厚度、掺杂浓度及形貌的快速高通量、非接触式实时解析。本发明还适用于各种材料系统和生长条件，无需过多的人为干预和调整，具有较强的通用性和适用性。