一种基于智能工业机器人半导体光刻系统

本发明涉及工业自动化领域，具体提出一种基于智能工业机器人半导体光刻系统。多传感器融合与实时补偿算法，精准感知并校正光刻定位误差，大幅提升定位精度，保障芯片性能稳定。多物理场监测与自适应控制算法，依光刻环境与光刻胶状态，动态调控工艺参数，优化图形转移，避免图案缺陷，提高光刻图案质量。多模态数据融合与深度学习算法，依据晶圆表面特性，自动调整光刻胶涂布参数，实现均匀涂布，增强光刻工艺稳定性。强化学习算法助力多机器人高效协同，优化任务分配，提升整体光刻效率与资源利用率，全方位推动半导体光刻技术进步。