基于光谱分析的半导体4D设备显影液质量在线监测方法

本发明公开了基于光谱分析的半导体4D设备显影液质量在线监测方法，涉及显影液质量监测技术领域，该方法的步骤包括：建立腐蚀光路基线校验模型，跟踪显影液光谱基线，得到基线漂移趋势，当漂移趋势小于或等于设定漂移门限时，不打断采集；否则，采集晶圆厂环境数据，创建标定必要性预测策略，输出标定必要性；依据显影液光谱特性，引入局部快速标定代替全幅标定，对选定波段进行高精度扫描，输出显影液质量系数；设置小型温控标定液仓，根据显影液质量系数自动周期性切换定量标定参考液流过传感器探头，标定结束后迅速切回生产液体。本发明解决了传统的全幅光谱标定方法耗时较长，频繁的标定会影响产线节拍，降低生产效率的问题。