一种施釉设备及施釉参数计算方法

本发明涉及陶瓷生产技术领域，具体涉及一种施釉设备及施釉参数计算方法。一种施釉设备，包括：机架、至少两组整段式输送组件、回收件、淋釉器、驱动器和多条整段式输送带；多条所述整段式输送带绕设在两组所述整段式输送组件上；两组所述整段式输送组件之间形成有回收区域，所述淋釉器的输出端位于所述回收区域的上方；所述淋釉器用于对所述整段式输送组件上的坯体进行淋釉；所述回收件用于回收所述淋釉器淋出的多余釉浆；多条整段式输送带同步运行保障坯体平稳，提升产品良品率与竞争力，通过回收件回收多余釉料，减少釉浆浪费污染，降低对设备的清洁频次、成本，驱动器提供稳定动力，设备集多种优势于一体，全面优化综合效益。