掩模版图形优化方法、电子设备及程序产品

本申请公开了一种掩模版图形优化方法、电子设备及程序产品，方法包括：基于优化精度需求，从多个优化模型中确定目标优化模型；其中，优化模型通过对设计版图以及具有一致性的脊点图形进行训练得到；将第一设计版图输入目标优化模型，得到模型预测结果；基于模型预测结果与第一设计版图，确定脊点图形；脊点图形包括多个包含方向信息的脊点；基于第一设计版图和脊点，生成第一掩模版图形。本申请能够实现ILT优化后的掩模版图形具有数据一致性，并基于优化精度选择合适的优化模型，保障计算复杂度和模型精确度的平衡。