半导体装置及其制造方法

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正文
推荐专利
半导体装置及其制造方法
申请号:CN202510625123
申请日期:2025-05-15
公开号:CN120998888A
公开日期:2025-11-21
类型:发明专利
摘要
一种半导体装置及其制造方法。提供可实现能够在绝缘层中形成微细的导通孔、以及确保绝缘层与布线在高温回流焊工序后的密合性、抑制绝缘不良的半导体装置。一种半导体装置(1),其具备多个半导体芯片(2)、密封材料(3)和再布线层(4),所述密封材料(3)覆盖前述半导体芯片(2)的一部分,所述再布线层(4)配置于前述半导体芯片(2)中的未被前述密封材料(3)覆盖的表面侧、且俯视时面积大于前述半导体芯片(2),前述再布线层(4)包含布线(5)和绝缘层(6),所述布线(5)与前述半导体芯片(2)电连接,所述绝缘层(6)的玻璃化转变温度为240~320℃。
技术关键词
半导体装置 半导体芯片 二价有机基团 密封材料 布线 感光性树脂组合物 聚合物 链状脂肪族 回流焊工序 卤素 改性酚醛树脂 芳香族基团 开口面积 四羧酸 环氧树脂
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