一种浅槽隔离氧化物栅氧剂量辐照探测器

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一种浅槽隔离氧化物栅氧剂量辐照探测器
申请号:CN202510655581
申请日期:2025-05-20
公开号:CN120539771A
公开日期:2025-08-26
类型:发明专利
摘要
本发明公开一种浅槽隔离氧化物栅氧剂量辐照探测器,涉及辐照探测技术领域,以解决现有技术中的辐照探测器与小工艺制程节点电路无法兼容至同一芯片上的问题。探测器包括:硅衬底;形成于硅衬底中的目标浅槽;形成于衬底上并位于目标浅槽两侧的源漏极;形成于衬底和源漏极上并位于目标浅槽中的浅槽隔离氧化层;浅槽隔离氧化层用于对源漏极和栅极进行电性隔离;形成于浅槽隔离氧化层上的栅极;提升了辐照探测器与小工艺制程节点电路的集成度,满足工艺制程小的需求,可与小工艺制程节点电路兼容至同一芯片。
技术关键词
浅槽隔离 探测器 三态开关 栅极 MOS管 隔离氧化层 硅衬底 陷阱电荷 电子 制程 多晶硅材料 金属材料 芯片结构 界面 介质 电路 电源
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