摘要
本发明公开了一种任意构型打孔结构的等离激元结构色设计方法,其特点是采用数值建模与梯度下降算法和遗传算法协同设计纳米结构的方法,高效生成复杂形状并满足广色域要求的任意构型的等离激元结构色设计,该方法利用遗传算法对复杂图形进行全局优化,采用函数化方法描述复杂结构形状,通过梯度算法引导结构沿目标函数方向演化,最终获得满足目标函数和约束条件的任意构型广色域结构色形状设计。本发明与现有技术相比具有显著提高设计效率和优化程度,快速生成复杂形状,确保设计结果的多样性和高质量,尤其适用显示技术、光学材料设计及超表面设计等领域,为广色域结构色图案设计提供高效、灵活的解决方案。
技术关键词
打孔结构
梯度下降算法
构型
结构色图案
电子束曝光系统
梯度算法
遗传算法寻优
滤波
金属膜结构
纳米结构
伴随算法
多层膜结构
刻蚀方式
镀膜方式
原子层沉积
粒子群算法
刻蚀技术
光学材料
样条