摘要
本发明涉及一种氮化钛蚀刻液,按照重量份计算,包括如下组分:自组装添加剂0.4‑2份;铵盐0.1‑1份;过氧化氢5‑15份;无机酸70‑90份。本发明还公开上述蚀刻液的制备方法与用途。本发明通过多酚羟基化合物和多糖类化合物组成自组装添加剂,具有低粘附性,较好的水溶性和螯合钛离子能力。多酚羟基化合物具有抗氧化能力,多糖类化合物辅助多酚羟基化合物粘附在金属表面,在金属钨表面形成致密的网状结构,实现对W Plug的保护。本发明的蚀刻液水溶性好,易冲洗,不易在金属表面有残留。
技术关键词
氮化钛
蚀刻液
铵盐
乙二胺四乙酸
添加剂
金属钨表面
多酚
飞燕草素
氟化氢铵
柠檬酸铵
半导体芯片
水溶性
碳酸氢铵
过硫酸铵
草酸铵
钨酸铵
氟化铵
网状结构
次氯酸
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