一种基于光刻胶折射率匹配的光学神经网络制备方法

本发明公开了一种基于光刻胶折射率匹配的光学神经网络制备方法，包括：S1、通过双光子聚合工艺在基底上固化第一光刻胶作为第一光敏材料得到样品；S2、当曝光完成后，将样品浸泡于丙二醇甲醚乙酸酯进行显影，进行优化显影后样品的表面状态；S3、将经过上述步骤后第一光刻胶的相位板表面滴涂第二光刻胶作为第二光敏材料，以覆盖整个结构；S4、将上述样品采用单光子聚合工艺，进行固化；S5、重复上述步骤S1‑S4实现基片表面多种材料的交替聚合。根据本发明，不仅优化了折射率匹配技术，还提出了降低加工误差的方案，以进一步提升光学神经网络的制造精度和稳定性。