一种抗静电半导体UV减粘层及保护膜及其制备方法

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一种抗静电半导体UV减粘层及保护膜及其制备方法
申请号:CN202510679548
申请日期:2025-05-26
公开号:CN120399593A
公开日期:2025-08-01
类型:发明专利
摘要
本发明涉及聚氨酯胶技术领域,且公开了一种抗静电半导体UV减粘层及保护膜及其制备方法,本发明向UV聚氨酯溶液中加入苝二酰亚胺修饰碳纳米管溶液、活性稀释剂,光引发剂,得到抗静电半导体UV减粘胶。在聚氨酯分子链中引入可UV聚合的烯基,光固化后降低了剥离强度,表现出减粘易剥离的效果。将耐高温性的苝二酰亚胺稠环引入到聚氨酯主链中,提高了胶层的耐高温性能。碳纳米管经过非共价表面修饰,提高了与聚氨酯分子链的界面作用力,在减粘胶中的分散性变好,可以促进碳纳米管形成连续的导电通路,提高了抗静电性能。该减粘胶在半导体芯片晶圆加工、耐高温胶黏剂、抗静电胶黏剂等方面有很好的实际应用。
技术关键词
抗静电 修饰碳纳米管 酰亚胺 UV减粘胶 聚四氢呋喃 活性稀释剂 聚氨酯胶技术 异氰酸酯 耐高温胶黏剂 乙酸乙酯 二月桂酸二丁基锡 保护膜 溶液 丙烯酸酯 半导体芯片 二甲基甲酰胺 丙二醇 光引发剂
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