一种碳化硅衬底基面位错缺陷数字孪生控制系统及方法

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一种碳化硅衬底基面位错缺陷数字孪生控制系统及方法
申请号:CN202510687251
申请日期:2025-05-27
公开号:CN120575344A
公开日期:2025-09-02
类型:发明专利
摘要
本发明涉及半导体材料加工技术领域,具体涉及一种碳化硅衬底基面位错缺陷数字孪生控制系统及方法,数字孪生控制方法包括建立数字孪生模型;计算BPD密度径向分布函数和浓度匹配函数,实施动态调整的掩膜腐蚀策略;计算缺陷密度梯度映射算法实施分级扫描策略,生成实时缺陷密度矩阵;生成切割参数,进行动态路径切割;进行废料再生处理和纯度控制;动态调整掩膜腐蚀策略、分级扫描策略、切割参数和纯度控制策略,数字孪生控制系统应用于上述方法,实时优化碳化硅衬底基面位错缺陷检测与再生过程中的工艺参数,实现全流程闭环控制,更加适配大尺寸碳化硅衬底的产业化需求。
技术关键词
数字孪生控制方法 碳化硅衬底 数字孪生模型 位错缺陷 扫描策略 掩膜 映射算法 切割算法 密度 动态 再生粉体 保护区 数据采集层 应力 控制系统 工艺设备
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