摘要
本发明涉及半导体材料加工技术领域,具体涉及一种碳化硅衬底基面位错缺陷数字孪生控制系统及方法,数字孪生控制方法包括建立数字孪生模型;计算BPD密度径向分布函数和浓度匹配函数,实施动态调整的掩膜腐蚀策略;计算缺陷密度梯度映射算法实施分级扫描策略,生成实时缺陷密度矩阵;生成切割参数,进行动态路径切割;进行废料再生处理和纯度控制;动态调整掩膜腐蚀策略、分级扫描策略、切割参数和纯度控制策略,数字孪生控制系统应用于上述方法,实时优化碳化硅衬底基面位错缺陷检测与再生过程中的工艺参数,实现全流程闭环控制,更加适配大尺寸碳化硅衬底的产业化需求。
技术关键词
数字孪生控制方法
碳化硅衬底
数字孪生模型
位错缺陷
扫描策略
掩膜
映射算法
切割算法
密度
动态
再生粉体
保护区
数据采集层
应力
控制系统
工艺设备